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新三板創(chuàng)新層公司納晶科技新增發(fā)明專利信息授權(quán):“核殼量子點(diǎn)及其制備方法、量子點(diǎn)光電器件”

2022-03-01 09:09:32

每經(jīng)訊,據(jù)啟信寶,新三板創(chuàng)新層公司納晶科技(830933)新增專利信息,專利權(quán)人為納晶科技,發(fā)明人是周健海、邵蕾、余世榮。專利授權(quán)日為2022年1月18日,專利名稱為“核殼量子點(diǎn)及其制備方法、量子點(diǎn)光電器件”,專利類型為中國發(fā)明專利,專利申請(qǐng)?zhí)枮镃N201910284571.5。

該專利摘要顯示:本發(fā)明公開了核殼量子點(diǎn)及其制備方法、量子點(diǎn)光電器件。其中核殼量子點(diǎn)的制備方法包括以下步驟S1,提供量子點(diǎn)核,將包含量子點(diǎn)核的溶液與鋅前體在反應(yīng)容器中混合;S2,步驟S1完成后,分多次向反應(yīng)容器加入硫前體和過渡層前體,硫前體與過渡層前體不同時(shí)加入,硫前體與鋅前體反應(yīng)生成多個(gè)ZnS層,過渡層前體至少與鋅前體反應(yīng)生成多個(gè)過渡層,其中過渡層的帶隙寬度小于ZnS層的帶隙寬度,控制過渡層前體的單次加入量使得過渡層的厚度不超過1層;S3,步驟S2完成后,向反應(yīng)容器中加入硫前體,鋅前體與硫前體反應(yīng)生成ZnS層,反應(yīng)后得到含核殼量子點(diǎn)的體系。

(記者 周宇翔)

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